Ионное травление микроструктур

Приводится классификация процессов травления материалов, используемых при производстве микроэлектронных приборов, рассматриваются механизм ионного распыления, зависимости коэффициента распыления и скорости ионного травления от физических, химических и технологических факторов. Анализируются особенности режимов откачки, переноса изображения, выбора и обработки маскирующих материалов, а также радиационные дефекты, возникающие при ионном травлении. Рассматриваются различные системы ионного травления, методы и приборы для контроля этого процесса и перспективы его применения в производстве изделий микроэлектроники. Даются практические рекомендации по выбору и расчету технологических параметров ионного травления различных материалов и геометрии распылительных устройств для его реализации. Книга предназначена для технологов электронной промышленности и разработчиков новых видов оборудования, а также полезна аспирантам и студентам вузов.